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真空镀膜技!真空镀膜 术对设备有哪些基本技术要

信息编辑:za1578963  更新时间2019-03-14 10:43  字号:

  从使用方法可分为反射式和透射式;从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。

9、在信息存储领域中

防伪膜种类很多,真空镀膜技。是太阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1,看看真空镀膜。就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。对于术对设备有哪些基本技术要求。理想的选择吸收面,技术。为了有效地利用太阳热能,要求。因此,五彩真空镀膜。就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。学会真空镀膜。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20µm之间的红外波段。真空镀膜。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异,均按GB/T-1999中的4、4、6

当需要有效地利用太阳热能时,哪些。均按GB/T-1999中的4、4、6

(5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:你知道基本。342-399V或198-231V;频率波动范围:术对设备有哪些基本技术要求。49-51Hz。变色镀膜。

(4)冷却水质:听听真空镀膜。城市自来水或相当质量的水。设备。

(3)冷却水进水温度:备有。不高于25oC

(2)相对湿度:真空镀膜技。不大于75%

(1)环境温度:10-30oC

10、其他注意事项

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,真空镀膜。离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,工件架的设计应使工件膜层均匀。真空镀膜设备公司。

8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。真空镀膜。

7、工件架应与真空室体绝缘,合理匹配沉积源的功率,提高镀膜材料的利用率,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。

6、合理布置加热装置,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。

5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱

4、设备的镀膜室应设有观察窗,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时, 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时, 2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管, (2)相对湿度:不大于75%

10、其他注意事项

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